半導體行業反滲透設備

2020-03-29 11:09

　　半導體行業反滲透設備概述

　　半導體行業反滲透設備主要是使原水達到反滲透膜分離組件的進水要求，保證反滲透純化系統的穩定運行。反滲透膜系統是一次性去除原水中98%以上離子、有機物及100%微生物(理論上)經濟高效的純化方法。

　　半導體行業反滲透設備的原理

　　反滲透是精密的膜法液體分離技術，在進水(濃溶液)側施加操作壓力以克服自然滲透壓，當高于自然滲透壓的操作壓力加于濃溶液側時水分子自然滲透的流動方向就會逆轉，進水(濃溶液)中的水分子部份通過反滲透膜成為稀溶液側的凈化產水。反滲透設備能阻擋所有溶解性鹽及分子量大于100的有機物，但允許水分子透過，反滲透復合膜脫鹽率一般大于98%。
 

反滲透設備

　　半導體行業反滲透設備的清洗保養

　　一、在線清洗

　　在線清洗是指對反滲透裝置整體進行清洗，膜元件不用拿出壓力容器，通常在較大系統中設計使用。此清洗方式操作簡單方便，時間短，但容易造成清洗不徹底，效果不理想。當反滲透裝置污染較輕時可采用此方法。

　　二、離線清洗

　　離線清洗是指將膜元件從反滲透壓力容器中卸下，裝入專用清洗設備中進行清洗，通常一次清洗數量不超過6支。此清洗方式操作簡單方便，清洗徹底、效果佳。但膜元件較多時，清洗時間較長。當反滲透污染較嚴重或在線清洗效果差時可采用此方法。

　　三、EDI清洗

　　隨著工作時間的累積，需要對EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：

　　1、硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內。

　　2、在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢(例如，硅)。

　　3、在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢。

　　半導體行業反滲透設備的優勢

　　反滲透是在室溫條件下，采用無相變的物理方法使水得以淡化、純化。

　　水的處理僅依壓力作為推動力，其能耗在許多處理方法中低。

　　不用大量的化學藥劑和酸、堿再生處理。

　　無化學廢液及廢酸、堿排放、無廢酸、堿的中和處理過程，無環境污染。

　　系統簡單，操作方便，產品水質穩定，可以取得較高的純水。

　　適用于較大范圍的原水水質，既適用于苦咸水、海水及污水的處理，又適用于低含鹽量的淡水處理。

　　設備占地面積小，需要的空間少。

　　運行維護和設備維修量極低。

　　萊特萊德北京水處理設備公司除了提供半導體行業反滲透設備之外，還提供其它不同型號的反滲透設備，如液晶LCD用反滲透純水設備、海水淡化用反滲透設備等，種類繁多，質量可靠。我們不斷為萊特萊德潛力巨大的水處理市場提供品質優秀、價位合理的水處理設備和材料。我們的目標是給用戶提供值得信賴的工程設計和技術支持，提供可靠、高性價比的系統解決方案。